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纳米级原型制作与 FIB 电路编辑解决方案
电路编辑技术可在 IC 制造流程的多个阶段快速实现小范围设计修正的原型制作：在首片硅调试之后；在产率爬坡期间用于提升性能；为测试开发者（beta 开发者）制造少量可工作的芯片；以及用于解决可靠性问题。电路编辑工程师在芯片上铣削至疑似缺陷位置，然后以精确几何形状移除或沉积导体或绝缘体，从而使 IC 制造商无需重制光罩或额外加工晶圆即可验证设计更改。
仅供研究使用，不得用于诊断程序。
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电路编辑技术可在 IC 制造流程的多个阶段快速实现小范围设计修正的原型制作：在首片硅调试之后；在产率爬坡期间用于提升性能；为测试开发者（beta 开发者）制造少量可工作的芯片；以及用于解决可靠性问题。电路编辑工程师在芯片上铣削至疑似缺陷位置，然后以精确几何形状移除或沉积导体或绝缘体，从而使 IC 制造商无需重制光罩或额外加工晶圆即可验证设计更改。
仅供研究使用，不得用于诊断程序。