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为先进材料成像提供内置灵活性
Thermo Scientific Quattro ESEM环境扫描电镜 使在广泛条件下进行原位加热与降温实验成为可能，您可以在调节压力、湿度或温度时观察材料表面、成分和形貌的变化。 丰富的配件支持对块状材料和薄膜材料在传统 SEM 成像模式下以及（必要时）透射模式下的表征。
温度控制
Quattro ESEM 环扫电镜的先进技术支持对湿样和干样进行降温与升温实验，以满足多样化的研究需求。 Peltier 制冷样台非常适用于对湿样的精确温度控制；当需要时，Thermo Scientific WetSTEM技术也支持在透射模式下进行降温。 Quattro ESEM 提供多种加热方案，可满足块体材料与粉末样品的需求。借助高真空加热台，您可以在高真空下进行高温动态实验，或在低真空/ESEM 模式下，，使用最高温度可达 1,000°C 或 1,400°C 的加热台进行此类实验。此外，Thermo Scientific SED 可实现局部加热，提供对温度变化的更精确控制，从而支持更精准的分析。 这些工具为不同条件下的热学实验提供了灵活性与精确性。
二次电子像（SE）：显示生长在奶酪样品上的霉菌孢子。成像在 ESEM 模式下进行，压力为 500 Pa，冷却至 2°C。
二次电子像，显示 CoSb 粒子簇在原位加热实验中的形貌演变。 左图显示材料在 500°C，右图则达到 700°C。
面向高压分析的多种真空模式
该系统提供高真空、低真空与环境真空三种模式，帮助您在极高压力下处理各种样品，尤其适用于潮湿、对电子束敏感、放气或不适合常规真空环境的样品。 通过高真空、低真空和环境模式的组合，您可以最大限度减少样品制备时间，并能够自由的对各类材料进行成像，而无需承受在高真空下对潮湿样品成像时常见的形貌变化伪影。
左：在50 Pa低真空模式下成像的灰烬中微生物。 中：涡虫横截面的高角环形暗场 STEM 图像，于高真空下成像。 右：束敏感聚合物纤维在 1 kV 下的成像结果，采用束流减速以增强表面细节。
集成 EDS 与原位能力，实现最高灵活性
Thermo Scientific ChemiSEM 技术无论涉及温度还是压力变化，动态原位实验都可能引起微观结构改变，以及相变或晶粒长大。 Quattro ESEM可选配用于提供化学信息的组件，并支持多种原位冷却和加热实验。
在进行动态实验的同时执行EDS分析，可实现同步化学分析，从而洞察元素随温度变化的扩散、偏析或氧化行为。 这种双重能力有助于加深对材料行为的理解，并支持对服役环境中性能的更准确预测。
在最高 400–450°C 的条件下，用户仍可使用定量图谱以及 ChemiSEM 技术提供的完整功能。 为了更深入了解新材料的形成与元素重排，ChemiPhase提供各相的分布图，以及相应的谱图和成分信息。
在加热实验中混合金属（包括银、铜、锡和铅）的演变。 由ChemiSEM技术创建的图像显示了感兴趣区域在不同温度下所有元素的分布，从而可以了解各材料的演变。
以最少干预实现高分辨率
无论样品类型或使用何种模式，Quattro ESEM均能在极少人工干预下提供卓越的图像质量和分辨率。 灵活的腔体可容纳多个探测器，进一步拓展您的分析能力；同时，先进的自动化软件有助于降低开展原位实验时面临的挑战。
为满足您最大需求而打造
对于所有繁忙的科学家而言，一项核心挑战是如何在效率需求与对科学探索与发现的热情之间取得平衡。 我们开发Quattro ESEM，旨在让您同时享有两者优势。 它简化并自动化重复性任务，通过多模态功能拓展研究视野，节省您的时间和精力，使您能专注于探索新机会并掌握更先进的技术。
Quattro ESEM 技术规格
| Quattro ESEM | |
| 样品尺寸 | 最大支持直径 122 mm （在样品台行程或旋转受限时可容纳更大样品） |
电子源类型
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肖特基场发射电子源（FEG）
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| 最大分辨率 | 0.8 nm |
| 探测器与信号 |
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软件选项与配件 |
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| 占地尺寸 | 890 (w) x 1368 (d) x 1768 (h) mm，800 kg |
| 加速电压范围 | 200 V – 30 kV |
| 低真空模式（注明压力范围） | Up to 200 Pa |
仅供研究使用。不得用于诊断程序。