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金属是指具有光泽、延展性、容易导电、传热等性质的材料。一般分为黑色金属和有色金属,合金是由两种或两种以上的金属与金属或非金属经一定方法所合成的具有金属特性的物质。由于杂质会影响金属材料/合金材料的性能如力学性能,因此对于杂质控制成为金属材料中重要的检测需求,而随着下游电子行业对于金属/合金材料对于纯度的要求提高,因此杂质检测也从常量,微量,痕量发展到超痕量检测需求方向发展。
赛默飞作为科学服务的领导者,致力于帮助客户解决各类高难度复杂问题,在元素分析方面,赛默飞包含了ICP-OES、ICP-MS 等整套元素分析产品,能够解决各种元素分析需求,同时赛默飞ICP-MS 具有强大的拓展功能,可以与IC/HPLC 联用,实现环境样品中砷、铬、汞、碘、溴等多种元素形态分析,获得除元素总量以外更有价值的信息。
基体效应:绝大部分杂质元素灵敏谱线和铜元素的光谱集中区重合
限量低:要求设备灵敏度高,检出限低
高低含量元素同时检测:要求检测范围宽
使用了高性能中阶梯光栅和棱镜二维分光系统结构,优异的光学系统结构可以有效地避免铜基体光谱背景对杂质元素的谱线干扰
远紫外区谱线如磷 178.284nm 可以获得 ppb 级的检出限,从而避开铜基体元素的光谱干扰获得准确的测试结果
垂直炬管双向观测的设计适合高含量元素和低含量元素的同时检测
基体效应:基质干扰导致假阳性结果并影响仪器灵敏度
样品量大:要求仪器高稳健性
使用He KED 模式在大多数情况下可以实现一致的基体效应去除效果,并结合氩气稀释AGD功能可以有效地克服高基质影响
使用IMH只能基体处理技术,减少样本提前和倾向过程中接触样本基质,提高了仪器的正常运行时间