EVOS™ 光立方，QDOT WB 525-800 2.0

我们的第二代 EVOS LED 光立方在整个视野内提供出色的照明均匀性，可提供出色的无缝拼接图像质量。同时，优化的跨通道光谱保真度通过尽可能减少非预期渗漏，可显著提高数据质量。与原始设计一样，它们将冷凝光学器件和硬膜滤光片组合成一个卓越的光引擎，提供数控荧光基团激发。

这些 LED 光立方向后兼容较旧的 EVOS 和 Countess 系统，可配合第一代光立方一起使用。与原始光立方一样，这些 LED 立方可由用户更改，并由仪器自动识别。EVOS 光立方 QDOT WB 525-800 2.0 非常适合配合 Qdot 荧光基团和其他荧光基团（最大激发和发射波长接近 445 和 514 nm）一起使用。

EVOS LED 光立方可为您提供以下重要优势：
• 在整个视野内均匀照明，可获得卓越的图像质量
• 优化的光谱兼容性，可尽可能提高检测真实信号的能力，同时尽可能减少渗漏，以获得尽可能高的数据质量
• 更短的光路，可实现对荧光信号的卓越检测
• 超过 50,000 小时的稳定照明强度有助于实验重现性

高效光引擎
我们的第二代光立方设计在原始设计的基础上有了很大改进。更大的孔径增加了照明均匀性，从而提供了出色的无缝拼接图像质量和一致性。此外，新的 LED 灯和滤光片组合可尽可能提高对昏暗样品至关重要的信背比，从而提高数据质量，无论 EVOS 和 Countess 系统的信号强度如何。通过将 LED 光立方尽可能靠近物镜转盘，可尽可能减少光路中的光学元件数量。较短光路的高强度照明提高了荧光激发效率，从而可以更好地检测微弱荧光信号。

硬膜滤光片套件可实现更高的透射效率
与软膜滤光片相比，硬膜滤光片更昂贵，但其有更锐利的边缘和明显更高的透射效率，透射效率通常高 >25%。LED 灯泡和滤光片经过优化，可尽可能增强来自目标荧光基团的信号，同时尽可能降低来自其他染料的信号（即渗漏），有助于您获得更明亮的荧光、更高的透射效率和检测微弱荧光信号的能力以及更好的信噪比。这些因素可提高图像和数据质量。

光强度可持续
汞弧灯会在操作的前 100 小时减少 50% 的光强度—另外，若需要使用汞照明对不同时段获得的图像进行定量比较，需要先进行复杂的校准操作。EVOS 立方可保持连续的光立方强度，从而提供日间和实验间一致的照明，并帮助您直接比较在不同日期采集的图像的定量结果。每个光立方都包含一组精确匹配的光学组件，来优化光束的位置、均一性和强度。这些数控光源可轻松调整光强度、曝光时间和相机增益，从而减少光毒性和光漂白。

减少购买和维护成本
EVOS 系统的 LED 灯泡预计可使用 >50,000 小时，而经典的汞灯泡使用寿命为 300 小时，金属卤化物灯泡的使用寿命为 1,500 小时。这意味着可以节省仪器总体维护成本。

要选择适合您实验的光立方，请访问光立方选择指南。

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