完全集成的超快速加热解决方案，可用于原位高分辨率成像，温度可高达 1200 °C

关键优势

• 在高真空中进行快速而精确的加热。材料快速加热至 1,200 °C（100 ms）。
• 在 >1000 °C 的温度下进行 EDS 和 EBSD 成像。由加热器的低热辐射启动。
• 原位纳米尺度成像的稳定解决方案。μ加热杆的开发考虑到高分辨率成像。它在高温下能保持较高的 DualBeam 性能。
• 均匀的温度分布。μ加热杆的 MEMS 设备设计可在加热区内提供一致、可重复且均匀的温度分布。
• 一种能保证性能的解决方案。在 Thermo Scientific DualBeam 仪器上完全集成显微镜控制软件。