instruments-pic8-180604

荷电补偿

X 射线的光子打到样品表面会引起电子发射。当然，这就是 XPS 技术的基础。如果表面是不导电绝缘体，那么发射电子会导致表面积累正电荷。当使用非单色化 X 射线源进行 XPS 分析时，通常样品区域内会有足够数量的电子来限制荷电效应。但是，当 XPS 测量使用单色化 X 射线源时，杂散电子太少无法控制荷电，而所得的正电荷会严重影响 XPS 谱。这会导致 XPS 谱峰向高结合能移动并伴随有畸变。因此，必需使用外部电子源提供补偿电子，中和表面上的电荷。补偿电子稳定和控制荷电在中和态附近几个电子伏特范围内。在完成数据谱采集后，使用 Thermo Scientific Avantage 数据系统中的谱图处理工具，可校正谱峰微小移动。

组合离子枪

使用一把枪同时提供聚焦低能电子束和大面积离子流，比使用单独源具有多个明显的优势。一种全新的离子和电子组合枪已经问世，拥有上述所有的优势。这种独特的组合枪使用 LaB6 发射体，能产生高亮度的低能电子源，能量发散仅为 0.3 eV 左右。它们在样品上聚焦成小束斑。利用一体化的 X-Y 偏转器，能与 X 射线束精确对中。μ 金属分析室中存在的超低残余磁场能加强该低能电子束的聚焦和对中。

ESCALAB Xi+ 能谱仪中荷电补偿性能特点

  • 专利“透镜中”多模式静电中和枪
  • 0 - 5 eV（模式 1，mode 1）荷电补偿
  • 0 - 1000 eV（模式 2，mode 2）REELS/成像/对中
  • 最高 500 µA 电子发射
  • 选配双束（离子/电子）中和枪

K-Alpha 能谱仪中荷电补偿性能特点

  • 双束源
  • 适用于所有样品的单模式中和枪
  • 适用于所有 X 射线束斑的单模式中和枪
  • 超低能量束使得偏离参考位置最小
  • 中和枪装有用于精确对中的静电偏转

Theta Probe 能谱仪中荷电补偿性能特点

  • 低能电子和离子组合中和枪
  • 中和枪装有用于精确对中的静电偏转
  • 低能弥散、高亮度电子枪
  • REELS 功能