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반도체 공정에서는 UPW의 나노입자 오염도 관리는 익숙하지만, IPA 세정 공정에서의 나노입자 분석은 여전히 어렵고 논의가 많지 않습니다. 본 웨비나에서는 Thermo Scientific ICP-MS의 스프레이 챔버 냉각 기능과 콜드 플라즈마 조건을 최적화하여, 기존에 도전적이었던 IPA 매트릭스 내 산화철 나노입자 검출에 성공한 최신 분석법을 소개합니다. 또한 써모 피셔 사이언티픽의 무기분석 워크플로가 이러한 반도체 분석 분야에서 어떠한 가치와 확장성을 제공하는지도 가볍게 이해하는 시간을 가져봅니다.
이번 온라인 강연에 많은 관심과 참여 부탁드립니다.
| 시간 | 주제 | 발표자 |
|---|---|---|
| 10:00 – 10:15 |
반도체 오염 제어를 위한 최적의 워크플로 솔루션
반도체 제조 공정에서는 미량의 무기 원소부터 원인 불명의 초미세 오염까지 정확하게 파악하는 분석 기술이 필수입니다. 본 세션에서는 특정 불순물뿐 아니라 공정 중 발생하는 다양한 미지 성분, 그리고 나노 단위 입자까지도 정성·정량할 수 있는 써모 피셔 사이언티픽의 무기 분석 워크플로를 소개합니다. 이를 통해 공정 오염 제어와 품질 향상을 위한 최적의 분석이 가능합니다. |
이창희 책임
써모 피셔 사이언티픽 |
| 10:15 – 11:10 | spICP-MS를 이용한 IPA의 산화철 나노입자 일상 분석법 소개
최근 들어 spICP-MS를 이용하여 검출하는 분석법으로 반도체 제조의 세정 공정에서 사용되는 UPW의 나노입자 오염도를 모니터링하고 있습니다. 그러나 세정 공정의 IPA (isopropyl alcohol)에 대한 나노입자 검출 방법은 아직 논의조차 되지 않고 있습니다. 이는 높은 휘발성 때문에 IPA를 ICP-MS에 직접 도입하기 쉽지 않고, 나노입자의 성분들 중 산화철은 Ar를 기반으로 하는 질량 방해를 크게 받아 상대적으로 작은 크기의 나노입자를 검출하기 어렵기 때문입니다. Thermo Scientific ICP-MS의 기본적인 spray chamber 냉각 기능과 cold plasma 조건을 적용한 spICP-MS 분석법을 정립하여 IPA의 산화철 나노입자를 ~10 nm 수준까지 검출하였습니다. |
안용희 연구소장
㈜JKC |
이창희 책임은 ICP-MS Product Specialist로서 여러 산업분야에 걸친 ICP-OES 및 ICP-MS의 고객 맞춤형 지원을 하고 있습니다.
특히 최근에는 배터리 및 반도체 산업에 집중함에 따라 반도체 수율 개선에 직접적인 영향을 미치는 극미량의 원소와 불순물의 정량▪정성 분석에 있어, Thermo Fisher Scientific의 질량분석 및 분광분석 장비로의 다양한 데모를 지원함으로써 고객 만족도를 이끌어내고 있습니다.
안용희 연구소장은 2012년부터 2020년 1월까지 Thermo Fisher Korea의 trace element analysis 응용지원팀에서 근무했고 2020년 2월에 JKC에 입사하여 ICP-OES를 이용한 Li 양극물질의 impurity 확인, ICP-MS/MS를 이용한 Au single nano particle 검출 등 분석 실무 현장에서 사용할 수 있는 분석법을 계속 개발 중인 22년 경력의 무기원소분석 전문가입니다.
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