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在高纯材料分析中,随着杂质控制水平不断降低,分析难点也随之增加。对于半导体等高纯材料应用而言,部分关键杂质的控制要求可达到 ppt 水平,对分析方法的背景、灵敏度和稳定性提出了更高要求。
硼酸作为重要的基础原料,广泛应用于半导体、核工业、光电玻璃及医药等领域。但随着材料纯度不断提升,高硼基体下的痕量杂质分析也变得更具挑战。
本研究采用 Thermo Scientific™ iCAP™ MSX ICP-MS,针对高纯硼酸中的 47 种杂质元素开展同步分析,并从线性、方法检测限、加标回收率和长期稳定性等方面对方法性能进行验证。
高浓度硼基体会给 ICP-MS 分析带来多重挑战:
空间电荷效应:可能降低部分元素的离子传输效率,影响灵敏度及准确性;
高基体负荷:长时间进样可能增加采样锥、截取锥及离子透镜污染,影响长期稳定性;
多原子离子干扰:Ar、O、Cl、B 等可能形成多原子离子,对部分目标元素产生质谱干扰;
超痕量分析要求:部分关键杂质的控制要求可达到 ppt 水平,对分析背景、灵敏度和稳定性提出更高要求。
因此,对于高纯硼酸这类复杂高基体样品,真正困难的不是“能不能测”,而是能不能在复杂基体中持续、准确地测量。
不同质量数元素面临的质谱干扰和灵敏度需求并不相同。如果仅采用单一分析条件,很难同时兼顾所有元素。针对这些差异,iCAP MSX 采用三种分析模式协同应对。三种模式无需更换硬件,可根据不同元素的分析需求进行切换。
iCAP MSX 三种分析模式参数设置

分析问题:Li、Na、K、Ca 、Fe等低质量数元素容易受到 Ar 及基体相关背景的影响;与此同时,高基体样品又对等离子体稳定性提出了更高要求。
应对方式:冷焰模式通过降低 RF 功率,减少 Ar 及部分基体相关多原子离子的形成。iCAP MSX 采用更稳健的冷焰功率,并结合 QCell™ 氢气(H₂)反应模式,对特定多原子离子进行进一步控制。
分析效果:在降低相关背景的同时,更好地兼顾低质量数元素分析所需的灵敏度与稳定性。
分析问题:ICP-MS 中,不同质量数元素的最佳离子聚焦条件存在差异。在多元素同时分析时,很难兼顾不同质量数元素的灵敏度需求。
应对方式:iCAP™ MSX ICP-MS 透镜系统支持 IntelliLens™ 智能透镜电压同步扫描技术,可根据分析元素自动优化离子透镜电压。
分析效果:使轻元素与重元素均保持较高的离子传输效率,在多元素同时分析时更好地兼顾不同质量端的灵敏度需求。对于硼化工样品中的 Li、Be、Na、Mg 等轻元素以及 U、Th 等重元素,可兼顾其分析性能。
分析问题:在复杂基体样品中,多原子离子干扰是影响 ICP-MS 分析准确性的重要因素之一。
应对方式:iCAP MSX 采用平板四级杆 QCell™ 碰撞/反应池,支持 He KED 及反应模式,并结合自动低质量剔除功能,对 ArO⁺、ArCl⁺、CaO⁺ 等典型多原子离子干扰进行控制。
分析效果:在降低典型多原子离子干扰的同时,兼顾目标离子的传输效率,为复杂基体中的多元素准确分析提供支持。
对于高纯硼酸等高基体样品,高浓度基体持续进入 ICP-MS 系统后,可能造成锥口及离子传输系统污染,并进一步带来信号漂移和维护压力。因此,在控制质谱干扰之外,还需要从样品引入和基体负荷入手,提高连续分析能力。
Intelligent Matrix Handling(IMH)可在样品引入、冲洗及待机阶段优化基体管理,减少高浓度基体进入质谱系统,降低盐类沉积速度,有助于延长采样锥及截取锥的维护周期。
easyAGD 采用在线氩气稀释方式,在保持较高灵敏度的同时降低进入等离子体的基体负荷,提高复杂样品分析稳定性,并有助于减少维护频率。
连续稳定性验证
在本次实验中,硼酸基质样品连续运行 1 小时,各元素信号保持稳定。
技术最终要落到分析结果。本研究对高纯硼酸中 47 种目标杂质元素进行了方法学验证,从线性、方法检测限、加标回收率以及连续稳定性等维度考察实际分析性能。
47 种元素
一套方法同步覆盖目标杂质元素
R>0.9996
标准加入0–2 μg/L浓度范围内
83.8%–114.7%
47 种目标元素加标回收率
连续 1 小时
硼酸基质样品各元素信号保持稳定
仪器检出限范围低于0.001ppt至0.034ppt。方法检出限为仪器检出限乘以500(称取0.1g,定容至50ml)
硼酸基体中部分代表元素标准加入曲线(完整数据见原始应用结果)
硼酸基质样品连续运行 1 小时稳定性
高纯硼酸,也能测得准、测得低、跑得稳。