洞见金属之芯

实验结果：

1. 分析元素的方法检出限及方法定量限：

实验采用试样空白溶液进行连续10 次的测量，以10 次试样空白的3 倍标准偏差做为该条件下的方法检出限（mg/L），方法定量限采用10 次试样空白溶液的10 倍标准偏差乘以稀释因子250（0.2g50mL）即得：

2. 对样品溶液进行二次重复测量，各元素含量的平均值如下表所示：

赛默飞技术优势：

• 优异的灵敏度：NDRO+eUV 增敏技术可以获得真空紫外区谱线PPB 级的检出限，CID821 检测器紫外量子化效率高，确保<190nm 以下波长具有极佳的灵敏度，如Al 167、P 178、S180 等
• 400 万像素级高精度谱图解析检测器：iFR 167-852 同时刻曝光，可在1 分钟内完成多达70 个元素的测定
• 高光通量高分辨率：200nm 处光学分辨率为0.007nm，P213.618、Cu213.598nm 谱线可完全分开
• 高性能分析：优异的光学系统结构和光学元件参数，全固式结构中阶梯光栅和棱镜二维交叉色散设计，结合大面积面阵式CID 检测器，有效降低邻近谱线干扰和消除光谱跨级干扰
• 高精度分析：38±0.1℃光室恒温和多种路质量流量控制器确保无与伦比的稳定性

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客户痛点

• 基体效应：稀土合金类样品由于TDS较高，标准溶液和实际样品基体存在较大差异，基体效应非常大
• 质谱干扰：稀土元素的同位素较多，待测重稀土元素极易受到样品基体中轻稀土元素同量异位素干扰，以及稀土氧化物、稀土和氢碳氮等结合的多原子离子干扰

实验结果

样品测试结果和加标回收率 (测试结果和加标浓度均已换算至固体样品）

赛默飞技术优势

• iCAP MSX ICP-MS标配独特的预置氩气稀释技术，Qtegra软件中一键即可自由选择5倍-100倍的稀释倍数，能够有效克服样品的基体效应，获得较好的内标回收率。
• 多种干扰消除：丰度较小的多原子离子干扰，采用以氦气为碰撞/反应气体的动能歧视 (KED) 作为综合干扰去除方法。而Dy Tb元素每个质量数都受到丰度较大的多原子离子干扰，采用高氦模式（7.0ml/min He气）可获得较好的干扰去除效果。
• iCAP MSX ICP-MS方法可准确快速测定稀土永磁样品中7种出口管控中重稀土元素 ，方法检出限远远低于管控要求，加标回收率和精密度数据良好。

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实验结果

✓ 按照设定的测量参数和采集模式，进行标准曲线和样品的测量，所有测试数据完成于常规等级非洁净间实验室：

✓ O2反应模式: On-Mass or Mass-Shift:

选择了含有5390mg/L的Fe溶液进行了测试，设定Q1进行55±0.35amu的精准质量数筛选，分别QCell碰撞反应池中使用了N/A(无气体)、He、O2、H2、NH3 5种测量模式，通过Q3质量分析器的On-Mass采集模式对54Fe、55Mn、56Fe离子进行监测可以如下结论：

1.NA(无气体)模式：56Fe的m-1拖尾是55Mn的主要干扰形式，通过设定Q3高分辨模式解决（右图m±0.15amu）

2.He& O2模式：两种模式下56Fe的拖尾干扰得到有效去除，几乎不产生贡献干扰；He模式下54Fe.1H仍然存对55Mn存在贡献干扰，干扰水平约为高于预期值的10%左右；O2对于5000mg/L量级的Fe溶液是最为有效的碰撞反应池干扰去除模式，并且不受铁基体产生的任何干扰，可确保结果的100%准确性。

3.H2& NH3模式：两种模式下56Fe的拖尾干扰水平微弱，几乎不产生贡献干扰；两种模式下54Fe.1H是最主要的干扰形式，其中H2模式更严重于NH3模式，主要源于Fe-FeH的形成焓和溶解焓特性、电荷转移效率以及碰撞反应池中与氢气发生的副反应。H2模式下干扰水平约为高于预期值的150%左右，NH3模式下干扰水平约为高于预期值的30%左右。

赛默飞技术优势

• iCAP MTX ICP-MS/MS两级质量分析器和反应池结构，采用物理分辨和化学反应相结合的技术，实现了等效的化学高分辨效果，可靠地规避了邻近质谱的拖尾干扰和多原子离子类质谱重叠干扰，并能获得易受特定干扰的杂质元素理想的定量下限和结果准确度。
• 通过行业产品指标、不同类仪器和不同实验室不同品牌仪器的数据对比，显示iCAP MTX ICP-MS/MS在灵敏度（<0.00005% B和<0.00005% Cd）、干扰去除能力（<0.00005% Cd 和<0.0003% Nb@4000mg/L量级锆溶液中，以及Hf、W和Ta、准确度、基体耐受性等方面具有优异的表现，完全适用于该行业中特种锆、海绵锆、氧化锆、氯化锆、氧氯化锆同类产品中多种杂质元素的准确检测。

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客户痛点

• 薄膜/涂层分析能力不足：传统GD-MS扫描速度慢，难以用于薄膜/多层结构分析，纳米级层（如2 nm钝化层）难以分辨
• 深度分辨率与灵敏度难以兼顾：GD-OES 深度分辨率有限，常规GD-MS：灵敏度高但不适合深度剖析
• 痕量/超痕量元素难以在界面识别：界面区域（如涂层/基底）中ppm甚至更低浓度元素难检测，及关键失效元素（Cu、Ti等）难以识别分布
• 多元素全面分析能力不足：无法一次性获取全元素分布
• 复杂样品适应性差：实际样品表面粗糙，多层结构复杂，而传统方法对样品要求高

实验结果：

✓ 将所得结果与ISO 25138:2010相关国际实验室比对（GD-OES测试方法开发）结果进行比较，可以清楚地看出，μs-FF-GD-MS的分析结果与GD-OES测试结果高度一致

✓ 与光发射技术相比，μs-FF-GD-MS的检测灵敏度提高了数个数量级。即使在低ppm浓度范围内的特征，也能够在深度剖面中被清晰分辨

赛默飞技术优势

• 纳米级深度分辨能力（核心突破）：深度分辨率<10 nm，可解析2 nm钝化层和多层薄膜结构
• 高灵敏度 + 低溅射速率（兼顾分辨率与检测限）：脉冲模式下降低功率并保持高灵敏度，实现纳米分辨率 + 痕量检测同时成立
• 痕量到超痕量检测能力（ppm → ppt）：可检测ppm级界面元素分布（Cu、Ti等），灵敏度显著优于GD-OES（多个数量级）
• 全元素覆盖：支持多元素同时分析（示例：14元素/100点） ，提供完整化学组成 + 深度分布
• 优异的样品适应性（真实工业样品友好）：可分析粗糙表面和多层结构样品，sputtering过程保持层结构特征

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