可对固体样本中几乎所有元素进行常规检测和定量：很多元素可低至十亿分之一 (ppb) 的水平。

高生产力和低分析成本
Element GD Plus GD-MS 专用于在高样本处理量下提供出色的灵敏度和准确度，从而显著降低分析成本。

• 高流速离子源
• 用户友好的源设计：样本交换时间<1分钟
• 泵送时间短：样本周转时间<10分钟
• 高样本处理量：高达5个样本/小时
• 更少的样本制备流程：不需要对高纯度样本进行酸洗
• 更快的样本分析：不需要测量校准标准品

常规操作
Element GD Plus GD-MS 以常规操作和高样本处理量为核心设计。

• 涵盖12个数量级以上的线性动态范围，可同时分析基质元素 (%)、痕量元素 (ppm) 和超痕量元素 (ppb)
• 不同检测模式之间的自动交叉校准，可确保获得可靠的结果
• 样本真空室：消除样本和 GD 池之间泄漏的风险
• 无需校准标准品即可在单次扫描内快速确定元素浓度（采用标准 RSF 方法）
• 在较短分析时间内获得较佳的精度

出色的检测限
Element GD Plus GD-MS 可提供高样本处理量且不影响性能。凭借较高的信噪比和较低的检测限，Element GD Plus GD-MS 是超高纯度元素分析的主力设备。

• 独特离子源专为高离子传输而设计，较大程度地提高分析的信号。
• 有保证的信噪比可产生达到亚 ppb 水平的检测限
• 可选的 CNO 选择项可实现 CNO 的亚 ppm 级检测限，而不影响分析的样本处理量
• 与静态 GD 源相比，可将多原子干扰降低 10 倍

可靠的高质量分辨率结果
高分辨率 ICP-MS 的简单性使其具有先进的性能，而不影响直接和可靠的方法开发。

• 测量无干扰，可得到无争议的分析结果
• 可以任意组合单次分析中的分辨率设置选项
• 固定狭缝设计，可确保较大的稳定性和重现性
• 配有滤光镜，可大幅降低高基质信号对相邻分析物峰的影响

采用纳米分辨率进行深度剖析
深度剖析是分析涂层元素和评估元素层间扩散的重要工具。

• 从纳米到数百微米范围的深度分辨率
• 无需校准即可确定所有元素的浓度（从亚 ppm 水平到100%）
• 灵活的阳极直径，适用于先进的深度剖析
• 可调整溅射速率，以进行批量分析或深度剖析

建议用于：

• 航空航天：镍基高温合金、复合材料、涂层和扩散层的深度剖析
• 微电子学：铜、铝粉、溅射靶材
• 可再生能源：硅块、晶片、太阳能电池
• 医学/制药/食品：不锈钢、合金