SpectraCAM™ 84 冷却科学成像系统

• CID（电荷注入设备）专有成像仪技术
• 540 x 540 像素分辨率
• 无损读取 (NDRO)
• 具有卓越的抗光晕性能；在严格的光过载任意用户或过程控制的目标区域 (ROI) 读取下几乎毫无光晕
• 组合像素区域整体无损读取
• 组合像素区域整体电荷注入或清除
• 基于实验观测信号，使用人工智能 (AI) 算法进行 ROI 的读取或注入
• 高动态范围（最大 28 位）
• 真正随机像素寻址
• 较宽波长响应（165 至 1000 nm）具有较高填充因子的毗连像素结构
• RACID（随机访问电荷注入设备）成像仪可进行直接低能量 (CuKa) X 射线成像
• GdO₂S 涂层可用于中高能级 X 射线成像，LUMOGEN 涂层可扩大 UV 灵敏度
• SpectraCAM 中采用的 RACID 成像仪经三机热电冷却系统冷却，减少了暗电流；水再循环系统用于进一步降低暗电流
• 16 位灰度摄像机控制器基于 Pentium™ CPU/PC104+ 架构，可进行 ROI 数据采集算法动态控制并对采集数据进行实时视频处理
• 摄像机软件还支持将数据导出为多种成像格式（JPEG 和 TIF）和电子表格格式
• 除了可对位置和尺寸进行编程外，还可对每个 ROI 进行单独编程，以整体读取（结合）像素或进行每像素无损读取
• 水平和垂直扫描方向和像素读取速度为用户总体可编程式

• 清洁 SpectraCAM 常用于氩气或氮气供应充足的应用；纯化气体用于清洁成像仪容器，以消除成像仪环境的水分
• 密封 SpectraCAM 利用设计用于可维持高真空达 3 年的全密封成像仪容器，无需进行气体清洁

建议用于：

SpectraCAM 具有近 100% 的填充因子，并可在存在极强光信号情况下辨别极弱光信号，因此它非常适合于光谱学和 X 射线晶体学应用。