Themis S S/TEM 用于半导体的优势包括：

• 高分辨率和高通量分析的较佳组合。透镜配置使其仅在 Themis 上可用。它可提供较佳的图像分辨率和较高的能谱效率。
• 极值得信赖的测量精确度。由于存在 ≤2% 的测量不确定性，在关键尺寸测量应用中可提供可信任、可重复性和一致性。
• 较强的多功能性。光学器件、化学检测、宽间隙极靴和独特应用软件的结合可确保平台覆盖能够涵盖广泛的应用。

较快获得结果

Themis S S/TEM 将压电工作台和漂移校正帧 (DCFI) 结合使用以补偿可能的样品漂移，从而能够较快获取数据。如此，仅在上样后数分钟内即可在 TEM 和 STEM 模式中采集高质量、高分辨率图像。

提高生产率

为了优化生产率，Themis S S/TEM 使用双线圈恒定功率透镜来尽量减少热漂移并尽量提高系统通量。这种设计可以消除在不同模式之间切换时的镜头热变化，例如从低倍镜模式切换进行特征搜索，以及从高倍镜模式切换进行成像。