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关键优势
- 可支持大量新型未经探索的应用的独特解决方案
- 使用静态离子束进行低能清洗 (20 - 500eV)，适用于大多数温和的表面抛光
- 原位 SEM/DualBeam 解决方案，允许在清洁后实验，而无需破坏真空
- 小光斑尺寸适用于精确的局部表面处理，无需重新沉积
- 广泛的操作条件，适用于各种应用
- 完全集成于本款显微镜的用户界面，操作简单直观
潜在应用
- 低耗损清洗
- 去除氧化层
- 碳氢化合物表面清洁
- 去除 Ga 污染
- FIB 处理后损伤层减少
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