纳米探测平台,用于晶体管和金属化故障的定位,以及高效样品制备,从而进行 TEM 半导体故障分析,具有高生产率,具备 5 nm 能力的电气表征。
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Thermo Scientific nProber IV 系统是一个基于扫描电子显微镜的高性能平台,用于晶体管和金属化故障的定位。它是我们迄今为止极先进的纳米探测系统,也是率先使用高分辨率 LEEN2 SEM 柱的系统。nProber IV 系统专门设计用于提高您故障分析 (FA) 工作流程的速度、准确度和输出,其中生产率极重要。
领先的晶体管探测 nProber IV SteadFast 纳米操纵器与温度控制的探测环境相结合,使探针具有与领先的晶体管配合工作所需的稳定性。
敏感样品的高分辨率成像 nProber IV 系统的新 LEEN2 柱支持低至 100 eV 的探测操作,并包括一个将样品剂量降低 30% 的高级控制系统。这些进步使 nProber IV 系统能够准确测量关键晶体管参数,同时尽可能减少 SEM 成像的偏移。
指导性操作和自动化 nProber IV 系统配备 eFast 半自动指导性工作流程,可帮助您完成从上样到电气表征的系统操作。eFast 软件可自动设置 LEEN2 柱并控制关键子系统,确保在多用户生产环境中实现一致的结果。
3D 结构 nProber IV 系统可配备 EBIRCH2 和 EBAC,以发现低至 ∼100 Ω 的 3D 互连结构中的关键故障。EBIRCH2 还可用于定位 FinFET 晶体管中的关键缺陷。此外,nProber IV 系统可配备一个子载物台,使探针能够隔开许多毫米,这对于大型 3D NAND 结构中的故障隔离至关重要。
电阻栅故障 nProber IV 系统可以利用上升时间小于 1 ns 的高速脉冲探测来隔离电阻栅故障。
自动化 我们的 easyProbe 软件可自动执行 nProber IV 工作流程中的关键步骤,包括:清洁探针、将探针降至样品上以及优化探针与样品之间的电气接触。easyProbe 软件可显著减少使用 nProber IV 系统所需的培训,并允许长时间的自动操作。