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能量色散 X 射线光谱仪(EDS,也缩写为 EDX 或 XEDS)是一种分析技术,可以对材料进行化学表征/元素分析。由能源(例如电子显微镜的电子束)激发的样品通过喷射核壳电子来消散一些吸收的能量。然后,一个更高能量的外壳电子继续填充它的位置,将能量差异释放为 X 射线,该 X 射线具有基于其初始原子的特征光谱。这允许对已被能源激发的给定样品体积进行组分分析。根据光谱中峰的位置识别元素,而信号的强度对应于元素的浓度。

如前所述,电子束提供足够的能量来喷射核壳电子并引起 X 射线发射。通过在电子显微镜上添加 EDS 探测器,可以借助EDS分析获得低至原子水平的信息成分。当电子探针在样品上扫描时,特征 X 射线被发射并测量;每个记录下的 EDS 谱都对应着样品上的特定位置。EDS分析结果的质量取决于信号强度和光谱的纯净度。信号强度在很大程度上依赖于良好的信噪比,特别是对于微量元素检测和剂量最小化(允许更快速的记录和无伪影的结果)。纯净度会影响可见虚假峰的数量;这是构成电子柱的材料产生的结果。

赛默飞世尔科技提供了一系列EDS分析解决方案,力求最大限度地提高这些关键品质。我们的 EDS 成分分析能力包括:

 

能量色散X射线光谱仪的相关资源

存在元素着色的纳米粒子的分段表面渲染:银核(红色)和铂壳(绿色)。为了增加可见度,铂壳已被着色为半透明。 样本由天津理工大学电子显微中心的丁毅教授和罗俊教授提供。

P-Zn-In 纳米管的 EDS 断层扫描。样品由密歇根理工大学的 Reza Shahbazian Yassar 博士提供。

存在元素着色的纳米粒子的分段表面渲染:银核(红色)和铂壳(绿色)。为了增加可见度,铂壳已被着色为半透明。 样本由天津理工大学电子显微中心的丁毅教授和罗俊教授提供。

P-Zn-In 纳米管的 EDS 断层扫描。样品由密歇根理工大学的 Reza Shahbazian Yassar 博士提供。

能量色散X射线光谱仪的相关应用

使用扫描电镜(SEM)进行部件清洁度检测时发现铝矿物颗粒

组件清洁度检测

现今比以往任何时候都更需要可靠、高质量的组件。借助扫描电镜,可以实现备件清洁度分析,获得多种分析数据,从而缩短生产周期。

使用电子显微镜进行质量控制和故障分析

质量控制和故障分析

质量控制和保证对于现代工业至关重要。我们提供一系列用于缺陷多尺度和多模式分析的 EM电子显微镜和光谱工具,使您可以为过程控制和改进做出可靠、明智的决策。

使用电镜进行基础材料研究

基础材料研究

越来越小的规模研究新型材料,以最大限度地控制其物理和化学特性。电子显微镜为研究人员提供了对微米到纳米级各种材料特性的重要见解。


能量色散X射线光谱仪的样品


电池研究

通过使用 microCT、SEM扫描电镜和TEM透射电镜、拉曼光谱、XPS和数字3D可视化与分析进行多尺度分析、实现电池开发。了解该方法如何提供构建更好电池所需的结构和化学信息。

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聚合物研究

聚合物微观结构决定了材料的整体特性和性能。显微CT能够对聚合物形态和成分进行全面的微量分析,适用于R&D和质量控制应用。

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金属研究

金属的有效生产需要精确控制夹杂物和沉淀物。我们的自动化工具能够执行金属分析需要的各种任务,包括纳米粒计数、EDS元素分析TEM样品制备

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石油和天然气

随着对石油和天然气的持续需求,人们一直需要高效、有效地提取烃类。赛默飞世尔科技为各种石油科学应用提供了一系列显微镜和光谱分析解决方案。

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纳米粒

在纳米技术领域,材料的性质与宏观技术领域中有本质的不同。为了研究它们,S/TEM仪器可以与能量色散X射线光谱仪结合使用,以获得纳米、甚至亚纳米级的分辨率数据。

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地质研究

地质科学依赖于对岩石样品中的特点进行一致、准确的多尺度分析观察。SEM-EDS结合自动化软件,可对岩石学和矿物学研究的纹理和矿物成分进行直接的大规模分析。

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法医学

作为法医学调查的一部分,可利用电镜分析和比较犯罪现场证据的痕迹。兼容的样本包括玻璃和油漆碎片、工具标记、药物、爆炸物和GSR(枪弹残留)。

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2D 材料

新型材料研究对低维材料的结构越来越感兴趣。具有探头校正和单色化的STEM扫描透射电镜可用于高分辨率二维材料成像。

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催化研究

催化剂对于大多数现代工业工艺至关重要。其效率取决于催化颗粒的微观组成和形态;EDS电镜是研究这些性质的理想选择。

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汽车材料测试

现代车辆中的每一个部件都是为了安全、效率和性能而设计的。使用电镜和光谱学详细表征汽车材料,可提供关键的工艺决策、产品改进和新材料。

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能量色散X射线光谱仪的相关产品

仪器卡片原件样式表

Spectra Ultra

  • 适用于大多数电子束敏感材料的新成像和光谱分析功能
  • 利用 Ultra-X 进行 EDX 检测的飞跃
  • 色谱柱旨在保持样品完整性。

Spectra 200

  • 用于 30-200 kV 加速电压的高分辨率和对比度成像
  • 宽间隙极片设计为 5.4 mm 的对称 S-TWIN/X-TWIN 物镜
  • 60 kV-200 kV 范围的亚埃 STEM 成像分辨率

Spectra 300

  • 获得原子水平的最高分辨率结构和化学信息
  • 30-300 kV 的灵活高张力范围
  • 三个透镜冷凝器系统

Talos L120C TEM

  • 更高稳定性
  • 4k × 4K Ceta CMOS 相机
  • 25 – 650 k 倍 TEM 放大范围
  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息

Talos F200i TEM

  • 高质量、高分辨率的(S)TEM成像和灵活的EDS
  • 可使用高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供双EDS,以获得最高的分析产量

Talos F200X TEM

  • 高质量、高分辨率的(S)TEM成像和精确的EDS
  • 可提供高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供具有终极清洁度的柱内Super-X G2 EDS

Talos F200C TEM

  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息
  • 高对比度、高质量 TEM 和 STEM 成像
  • Ceta 16 Mixel CMOS 相机提供了宽视野和高读取速度

Talos F200S TEM

  • 精确的化学成分数据
  • 用于动态显微镜的高性能成像和精确成分分析
  • 配有 Velox 软件、可实现快速、轻松的获取和分析多模态数据

Themis ETEM

  • 精确控制并了解样品温度
  • 通过 x 、 y 和 z 轴改进了样品稳定性、导航和辅助样品漂移校正
  • 推进高质量成像和电影采集功能

Helios Hydra DualBeam

  • 4 个快速切换离子种类(Xe、Ar、O、N),用于对种类最丰富的材料进行优化 PFIB 处理
  • Ga-free TEM 样品制备
  • 极高分辨率 SEM 成像

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

Verios 5 XHR SEM

  • 在 1 keV - 30 keV 全能量范围内可实现亚纳米分辨率的单色化 SEM
  • 可轻松访问低至 20 eV 的射束降落能量
  • 优良的稳定性、压电陶瓷样品台作为标准配置

Quattro ESEM

  • 超高通用性高分辨率 FEG SEM 、具有独特的环境能力( ESEM )
  • 在各种操作模式下均可通过同时进行 SE 和 BSE 成像观察所有样品的所有信息

PRISMA E SEM

  • 入门级 SEM 具有出色的图像质量
  • 轻松、快速地加载和导航多个样品
  • 由于专用真空模式、兼容多种材料

VolumeScope 2 SEM

  • 大容量各向同性 3D 数据
  • 在高真空和低真空模式下均具有高衬度和高分辨率
  • 轻松在常规 SEM 使用和连续切面成像之间切换

Apreo 2 SEM

  • 高性能 SEM、适用于纳米或纳米以下的所有圆分辨率
  • 用于敏感电视率材料对比度的列内 T1 反向散射检测器
  • 长工作距离 (10 mm) 下性能出色

Scios 2 DualBeam

  • 完全支持磁性及不导电样品
  • 高通量亚表面和 3D 表征
  • 先进的易用性和自动化功能

Phenom XL G2 Desktop SEM

  • 适用于大样品 (100x100 mm) 并是自动化的理想选择
  • <10 nm 分辨率和高达 200,000 倍的放大率;4.8 kV 至 20 kV 加速电压
  • 可选的完全集成的 EDS 和 BSE 检测器

Phenom ProX G6 Desktop SEM

  • 集成 EDS 检测器的高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE);放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom Pro G6 Desktop SEM

  • 高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE);放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom 微粒 X AM 台式扫描电镜

  • 多用途桌面 SEM 、同时使用自动化软件进行添加剂制造
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom 微粒 X TC 台式扫描电镜

  • 功能多样的桌面 SEM ,带有自动化软件,可用于技术清洁
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom Pure G6 Desktop SEM

  • 入门级桌面 SEM
  • 分辨率 <15 nm;放大率高达 175,000 倍
  • 耐用的 CeB6 放射源

Phenom 认知 GSR 台式扫描电镜

  • 专用的自动化 GSR 桌面 SEM
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 耐用的 CeB6 放射源

Phenom Pharos G2 Desktop FEG-SEM

  • 1 至 20 kV 加速电压范围的 FEG 源
  • <2.0 nm (SE) 和 3.0 nm (BSE) 分辨率(20 kV 时)
  • 可选的完全集成 EDS 和 SE 检测器

AsbestoMetric

  • 用于图像采集、纤维检测和报告的自动化工具
  • 纤维再访问有助于 EDS 分析
  • 石棉分析的 ISO 标准报告

Avizo 软件
材料科学

  • 支持多数据/多视图、多通道、时间序列、超大数据
  • 先进的多模式 2D/3D 自动配准
  • 伪影消除算法

Inspect 3D 软件

  • 用于交叉关联的图像处理工具和过滤器
  • 用于图像对齐的特征跟踪
  • 用于迭代投影比较的代数重建技术

Maps 软件

  • 获得大面积的高分辨率图像
  • 轻松发现感兴趣区
  • 自动化图像采集过程
  • 关联不同来源的数据

EDS 绘图

  • 快速可靠的样品或所选线中元素分布信息
  • 容易导出和报告结果

3D 重构

  • 直观的用户界面、可最大限度提高用户使用能力
  • 直观的全自动用户界面
  • 基于 " 阴影形状 " 技术、无需阶段倾斜

Velox

  • 处理窗口左侧的实验面板。
  • 活细胞定量分析
  • 交互式探测器布局界面用于可重复的实验控制和设置
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