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半导体器件的小型化正在以惊人的速度继续进行。为了准确开发、表征和测试这些器件,需要先进的电子显微镜成像和分析技术。从简单的一般半导体分析任务到需要在复杂器件上进行极其精确的电压对比度测量的高级故障分析 (FA) 技术,扫描电子显微镜 (SEM) 成像可以为您提供满足您的半导体生产需求的大量关键数据。

例如,较高的加速电压通常用于实现信号极大化和缩短数据生成时间。由于上一代器件具有较大的结构尺寸,这些较高的电压曾经是可接受的。然而,由于半导体器件小型化,特征尺寸继续缩小,因此较高的加速电压不再适用,而较低的电压是进行较小特征的SEM成像所必需的。低 kV 成像还为您实现了在不影响工作晶体管特性的情况下对其进行分析,并帮助您在不受底层部分干扰的情况下解析层。新材料的SEM成像也需要低电压来尽可能减少光束损坏。

Thermo Fisher Scientific 提供一系列 SEM 仪器,包括非常适合分析下一代半导体器件的低电压SEM成像工具。这包括多功能 Thermo Scientific Prisma SEM 和 Thermo Scientific Quattro SEM,这是我们提供的具有 Thermo Scientific ChemiSEM 技术的通用SEM成像工具。我们提供 Thermo Scientific Apreo SEM 高质量和低 kV 成像和 Thermo Scientific Verios XHR SEM 高对比度亚纳米成像。请单击至以下相应产品页面,了解更多信息。

SEM 成像和分析工作流程示例

 

 

 


半导体SEM成像相关资源

SEM成像的应用

半导体寻路

半导体探索和开发

先进的电子显微镜、聚焦离子束和相关半导体分析技术可用于识别制造高性能半导体器件的可行解决方案和设计方法。

半导体良率提升和计量

良率提升和计量

我们为缺陷分析、计量学和工艺控制提供先进的分析功能,旨在帮助提高生产率并改善一系列半导体应用和设备的产量。

半导体故障分析

半导体故障分析

越来越复杂的半导体器件结构导致更多隐藏故障引起的缺陷的位置。我们的新一代半导体分析工作流程可帮助您定位和表征影响量产、性能和可靠性的细微的电子问题。

物理和化学表征

物理和化学表征

持续的消费者需求推动了创建更小型、更快和更便宜的电子设备。它们的生产依赖高效的仪器和工作流程,可对多种半导体和显示设备进行电子显微镜成像、分析和表征。

电源半导体设备分析

电源半导体设备分析

电源设备让定位故障面临独特的挑战,主要是由于电源设备结构和布局。我们的电源设备分析工具和工作流程可在工作条件下快速实现故障定位并提供精确、高通量的分析,以便表征材料、接口和设备结构。

显示设备故障分析

显示设备故障分析

不断发展的显示技术旨在提高显示质量和光转换效率,以支持不同行业领域的应用,同时继续降低生产成本。我们的过程计量、故障分析和研发解决方案帮助显示公司解决这些挑战。


半导体扫描电镜样品


半导体材料和器件表征

随着半导体器件的缩小和变得越来越复杂,半导体产品需要新的设计和结构。高效的 3D 分析工作流程可以缩短器件开发时间,最大程度提高产量,并确保器件符合行业未来需求。

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Style Sheet for Komodo Tabs

半导体扫描电镜产品

仪器卡片原件样式表

Verios 5 XHR SEM

  • 在 1 keV - 30 keV 全能量范围内可实现亚纳米分辨率的单色化 SEM
  • 可轻松访问低至 20 eV 的射束降落能量
  • 优良的稳定性、压电陶瓷样品台作为标准配置

Quattro ESEM

  • 超高通用性高分辨率 FEG SEM 、具有独特的环境能力( ESEM )
  • 在各种操作模式下均可通过同时进行 SE 和 BSE 成像观察所有样品的所有信息

PRISMA E SEM

  • 入门级 SEM 具有出色的图像质量
  • 轻松、快速地加载和导航多个样品
  • 由于专用真空模式、兼容多种材料

Apreo 2 SEM

  • 高性能 SEM、适用于纳米或纳米以下的所有圆分辨率
  • 用于敏感电视率材料对比度的列内 T1 反向散射检测器
  • 长工作距离 (10 mm) 下性能出色

Phenom ProX G6 Desktop SEM

  • 集成 EDS 检测器的高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE);放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

用于将 H2 样式更改为具有 em-h2-header 类 p 的样式表

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半导体

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