Focused ion beam scanning electron microscopy

FIB-SEM 仪器

学术界和工业界的科学家和工程师不断面临着需要对各种样品和材料进行高度局部表征的新挑战。提高这些材料质量的持续动力意味着常常需要纳米级的结构和组分信息。DualBeam 聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 仪器通过将 FIB 的精确样品修饰与 SEM 的高分辨率成像相结合,正好完全这类数据。

赛默飞世尔科技是 FIB-SEM 技术的行业领导者,在 DualBeam 仪器方面拥有超过 25 年的经验。我们为一系列应用提供了广泛的产品组合和先进的自动化能力,包括透射电镜 (TEM) 样品制备、亚表面和 3D 表征、纳米原型设计和原位实验。

TEM sample preparation

TEM sample preparation is considered to be one of the most critical tasks in materials science research. However, it is also one of the most challenging and time-consuming. The latest technological innovations of DualBeam technology, along with our comprehensive software solutions and application expertise, enable fast and easy preparation of site-specific, high-quality S/TEM (scanning/transmission electron microscopy) samples for a wide range of materials. Thermo Scientific AutoTEM Software adds the capability for fully automated, unattended in situ TEM sample preparation, significantly increasing throughput and bringing you expert-level results regardless of your experience.

Structural analysis

When combined with Thermo Scientific Auto Slice & View Software, DualBeam instruments provide 3D insight into sample structure by selectively removing (milling) the material for subsurface characterization. Digital reconstruction generates multi-modal 3D datasets that can consist of a variety of signals, including backscattered electron (BSE) imaging for maximum materials contrast, energy dispersive spectroscopy (EDS) for compositional information, and electron backscatter diffraction (EBSD) for microstructural and crystallographic information.

The SEM capability of DualBeam instruments offers nanoscale details across a wide range of working conditions, from structural information obtained at 30 keV in STEM mode to charge-free, detailed surface information at lower energies. With unique in-lens detectors, DualBeam systems are designed for simultaneous acquisition of angular/energy-selective secondary-electron and BSE data. Fast, accurate, and reproducible results are provided by our unique SEM column design, which features fully automated lens alignments.

 

Nanoprototyping

The nanopatterning capabilities of DualBeam systems can substantially reduce research and development time. Rapid prototyping with the FIB enables functionality testing before the final device layout is established for batch fabrication. Beam-induced deposition of different materials can be combined with FIB milling without the need for additional aligning lithography steps; patterns can be directly added to deposited structures or existing patterns can be modified. The final patterned substrates are immediately available for further processing or characterization.

 

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电子显微镜

DualBeam仪器

DualBeam仪器系列包括多款FIB-SEM聚焦离子束扫描电子显微镜产品,适用于自动结构分析、TEM 样品制备以及纳米原型设计。

技术


技术


行业


应用

生命科学

 

材料科学

 

半导体


技术

生命科学

 

材料科学

 

半导体


冷冻透射电镜
Krios Rx Cryo-TEM

  • 业界领先的生产效率和易用性
  • SPA 专用固定 300 kV 电压
  • 用于确保可靠性的药物专用服务包

100 kV冷冻透射电镜
Tundra Cryo-TEM

  • 生物学相关分辨率下的结构信息
  • 空间利用率高且经济划算
  • 轻松的迭代样品优化
  • 用于精简数据收集的独特 AI 算法

300 kV冷冻透射电镜
Krios G4 Cryo-TEM

  • 改进的人体工程学
  • 可更轻松放进新建或现有的实验室
  • 极大提高生产率和自动化水平
  • 用于高分辨率 3D 重构的最佳成像质量

透射电镜
Spectra Ultra TEM

  • 适用于大多数电子束敏感材料的新成像和光谱分析功能
  • 利用 Ultra-X 进行 EDX 检测的飞跃
  • 色谱柱旨在保持样品完整性

300 kV透射电镜
Spectra 300 TEM

  • 获得原子水平的最高分辨率结构和化学信息
  • 30-300 kV 的灵活高张力范围
  • 三个透镜冷凝器系统

200 kV透射电镜
Spectra 200 TEM

  • 用于 30-200 kV 加速电压的高分辨率和对比度成像
  • 宽间隙极片设计为 5.4 mm 的对称 S-TWIN/X-TWIN 物镜
  • 60 kV-200 kV 范围的亚埃 STEM 成像分辨率

200 kV冷冻透射电镜
Glacios 冷冻 TEM

  • 可变的加速电压 80-200 kV
  • 用于冷冻样品操作的行业领先的自动加载器
  • 占地面积小
  • 增强易用性:

生物样品分析透射电镜
Talos Arctica TEM

  • 提高数据采集速度
  • 基于自动样品处理和自动进样的高质量数据
  • 无人看管平台运行和自动数据采集
  • 通过远程诊断和预防性维护实现低拥有成本

半导体计量透射电镜
Metrios AX TEM

  • 支持质量、一致性、计量以及减少 OPEX 的自动化选项
  • 充分利用机器学习实现出色的自动功能和特征识别
  • 适用于原位非原位两种薄片制备的工作流程

原位研究透射电镜
Themis ETEM

  • 精确控制并了解样品温度
  • 通过 x 、 y 和 z 轴改进了样品稳定性、导航和辅助样品漂移校正
  • 推进高质量成像和电影采集功能

120 kV透射电镜
Talos L120C TEM

  • 更高稳定性
  • 4k × 4K Ceta CMOS 相机
  • 25 – 650 k 倍 TEM 放大范围
  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息

200 kV场发射透射电镜
Talos F200i TEM

  • 高质量、高分辨率的 (S)TEM 成像和灵活的 EDS
  • 可使用高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供双 EDS,以获得较高的分析通量

最干净的能谱透射电镜
Talos F200S TEM

  • 精确的化学成分数据
  • 为动态显微镜检查提供高性能的成像和精准的成分分析
  • 配有 Velox 软件、可实现快速、轻松的获取和分析多模态数据

最深入的材料分析透射电镜
Talos F200X TEM

  • 高质量、高分辨率的 (S)TEM 成像和精确的 EDS
  • 可提供高分辨率、高亮度(冷)场发射枪
  • 可提供具有极佳清洁度的柱内 Super-X G2 EDS

高称度冷冻透射电镜
Talos F200C TEM

  • 灵活的 EDS 分析可提供化学信息
  • 高对比度、高质量 TEM 和 STEM 成像
  • Ceta 16 Mixel CMOS 相机提供了宽视野和高读取速度

ExSolve WTP DualBeam

  • 可以在完整晶片上制备直径高达 300 mm 的位点特异性 20 nm 厚薄片
  • 满足需要在先进技术节点上进行自动化高通量采样的需求

Helios 5 EXL DualBeam

  • 可实现高样品制备质量的低电压性能
  • 超高分辨率油浸透镜场致发射 SEM 色谱柱
  • 使用 EFEM 自动处理 300 mm FOUP(符合 GEM300 标准)

Helios 5 DualBeam

  • 全自动、高质量、超薄 TEM 样品制备
  • 高通量、高分辨率的亚表面和 3D 表征
  • 快速纳米原型设计能力

Helios 5 PFIB DualBeam

  • 无镓 STEM 和 TEM 样品制备
  • 多模式亚表面和 3D 信息
  • 新一代 2.5 μA 氙气电浆 FIB 色谱柱

Helios 5 激光 PFIB 系统

  • 快速、毫米级交叉截面
  • 统计学相关的深度亚表面和 3D 数据分析
  • 共享 Helios 5 PFIB 平台的所有功能

Helios Hydra DualBeam

  • 4 个快速切换离子种类(Xe、Ar、O、N),用于对种类最丰富的材料进行优化 PFIB 处理
  • Ga-free TEM 样品制备
  • 极高分辨率 SEM 成像

Aquilos 2 Cryo-FIB

  • 可自动生成多个薄片
  • 利用提取纳米操纵器锁定并提取感兴趣的结构
  • 用于高分辨率断层扫描的 3D 可视化

Scios 2 DualBeam

  • 完全支持磁性及不导电样品
  • 高通量亚表面和 3D 表征
  • 先进的易用性和自动化功能

多功能实时能谱扫描电镜
Axia ChemiSEM

  • 真正的实时定量元素分析
  • 低真空模式具有和高真空模式相同的分辨力,荷电样品轻松应对
  • 标配二次电子、电动伸缩背散射电子和能谱探头
  • 标配全彩导航相机和红外CCD相机

超高分辨场发射扫描电镜
Verios 5 XHR SEM

  • 带有单色器的电子枪,无论高低电压均可轻松实现亚纳米级分辨率
  • 电子束着陆能量低至20 eV,对电子束敏感材料的表征非常友好
  • 标配压电陶瓷样品台,实现优良的精确度和稳定性

环境场发射扫描电镜
Quattro ESEM

  • 具有独特环境能力的高分辨场发射扫描电镜
  • 可观察各种类型样品,并可在所有工作模式下都可实现SE和BSE同时成像
  • 可实现潮湿状态样品的扫描透射(STEM)观察

环境扫描电镜
PRISMA E SEM

  • 具有独特环境能力的钨灯丝扫描电镜
  • 简单且快速的样品装载能力并可对多个样品进行导航
  • 大样品仓,适用多种类型的样品

多功能高分辨场发射扫描电镜
Apreo 2 SEM

  • 具备优异性能的SEM,适用于纳米及亚纳米级别的空间分辨率应用
  • 纳秒级的T1闪烁体探测器,获取卓越的背散射电子衬度图像
  • 大工作距离(10mm)下具备出色的空间分辨率

三维成像场发射扫描电镜
VolumeScope 2 SEM

  • 各向分辨率相同的大体积3D数据
  • 高真空与低真空模式下均能获取良好的衬度和高空间分辨率
  • 在常规SEM模式和连续切片成像之间轻松切换

Phenom Pharos G2 Desktop FEG-SEM

  • 1 至 20 kV 加速电压范围的 FEG 源
  • <2.0 nm (SE) 和 3.0 nm (BSE) 分辨率(20 kV 时)
  • 可选的完全集成 EDS 和 SE 检测器

Phenom XL G2 Desktop SEM

  • 适用于大样品 (100x100 mm) 并是自动化的理想选择
  • <10 nm 分辨率和高达 200,000 倍的放大率;4.8 kV 至 20 kV 加速电压
  • 可选的完全集成的 EDS 和 BSE 检测器

Phenom ProX G6 Desktop SEM

  • 集成 EDS 检测器的高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE);放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom Pro G6 Desktop SEM

  • 高性能桌面 SEM
  • 分辨率 <6 nm (SE) 和 <8 nm (BSE);放大率高达 350,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom Pure G6 Desktop SEM

  • 入门级桌面 SEM
  • 分辨率 <15 nm;放大率高达 175,000 倍
  • 耐用的 CeB6 放射源

Phenom 认知 GSR 台式扫描电镜

  • 专用的自动化 GSR 桌面 SEM
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 耐用的 CeB6 放射源

Phenom 微粒 X AM 台式扫描电镜

  • 多用途桌面 SEM 、同时使用自动化软件进行添加剂制造
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom 微粒 X TC 台式扫描电镜

  • 功能多样的桌面 SEM ,带有自动化软件,可用于技术清洁
  • 分辨率 <10 nm;放大率高达 200,000 倍
  • 可选 SE 检测器

Phenom ParticleX Steel Desktop SEM

  • 集成 SEM 和 EDS
  • 易于使用
  • 亚微米级夹杂物

ELITE 系统

  • 完全无损
  • 快速识别装配板上有缺陷的组件以进行准确的处置
  • 以千分尺准确度定位 x-y 缺陷,深度位置准确度高达 20 µm

Hyperion II 系统

  • 原子力探测
  • 定位晶体管故障
  • 集成式 PicoCurrent (CAFM)

nProber IV 系统

  • 定位晶体管和 BEOL 故障
  • 热纳米探测(-40°C 至 150°C)
  • 半自动操作

Meridian S 系统

  • 使用主动探针技术的故障诊断
  • 静态激光刺激 (SLS/OBIRCH) 和光子发射选项
  • 支持微探测和探针卡设备两种刺激

Meridian WS-DP 系统

  • 使用宽频 DBX 或 InGaAs 相机系统实现高灵敏度、低噪音的低电压光子发射检测
  • 用于扫描链分析、频率映射、晶体管探测和故障隔离的多波长激光扫描显微镜

Meridian 7 系统

  • 适用于 10nm 及以下节点的动态光学故障隔离
  • 高分辨率可见光和红外光
  • 可大范围提供精确到 5μm 的高成品率样品制备

Meridian IV 系统

  • 高灵敏度扩展波长 DBX 光子发射检测
  • 标准 InGaAs 光子发射检测
  • 具有多种波长选项的激光扫描显微镜

Centrios 电路编辑系统

  • 卓越的图像/减薄分辨率
  • 增强的减薄精度和控制
  • 基于 Thermo Scientific Helios DualBeam 平台构建

Centrios HX 电路编辑系统

  • 采用较新 FIB 技术的高级半导体节点先进电路编辑
  • 无以伦比的铣削精度和控制以及低着陆能量,以保护敏感电路
  • 出色的导航和离子束放置准确度

MK.4TE ESD 和闩锁测试系统

  • 基于快速继电器的操作—多达 2304 个通道
  • 通过 6 个独立的矢量激励电平实现高级设备预处理
  • 完全符合标准的闩锁激发源和器件偏压

Orion3 静电放电测试仪

  • 带电器件模型测试
  • 双高分辨率彩色相机
  • 低至小于 0.4mm 节距的测试密度

Celestron 测试系统

  • 硅片和封装级 TLP 测试
  • 高电流 TLP 脉冲发生器
  • 可与半自动探针台连接
  • 直观的控制和报告生成软件

Pegasus ESD 测试系统

  • 按照最新行业标准进行测试
  • 真正的系统级 ESD 150pF/330Ω 网络
  • 通过晶圆探针与任何装置进行 2 引脚连接

HeliScan microCT

  • 先进的螺旋扫描及迭代重建技术
  • 高分辨率 X 射线源(低于 400 nm)
  • 处理、分析和可视化样品

Nexsa

  • 微焦点 X 射线源
  • 独特的多技术选项
  • 用于单原子和簇离子深度剖析的双模式离子源

K-阿尔法

  • 高分辨率 XPS
  • 快速、高效、自动化的工作流程
  • 用于深度剖析的离子源

ESCALAB QXi XPS

  • 高光谱分辨率
  • 多技术表面分析
  • 丰富的样品制备和扩展选项

Vitrobot 系统

  • 全自动样品玻璃化
  • 滤纸夹吸装置
  • 半自动化载网转移
  • 高样品通量

Amira 软件

  • 支持多数据/视图/通道
  • 交互式高质量可视化
  • 基于机器学习的分割
  • 直观的方法创建

Athena 软件

  • 确保图像、数据、元数据和实验工作流程的可追溯性
  • 简化您的成像工作流程
  • 促进协作
  • 保护和管理数据访问

Auto Slice 和 View 4.0 软件

  • DualBeam 自动连续切片
  • 多模式数据采集(SEM、EDS、EBSD)
  • 实时编辑功能
  • 基于边缘的剪切放置

AutoScript 4 软件

  • 更高的重现性和回收率
  • 无人值守的高通量成像和模式
  • 支持 Python 3.5 脚本环境

AutoTEM 5 软件

  • 全自动原位 S/TEM 样品制备
  • 支持上下、平面和翻转几何结构
  • 高度可配置的工作流程
  • 易于使用、直观的用户界面

Avizo 软件

  • 支持多数据/多视图、多通道、时间序列、超大数据
  • 先进的多模式 2D/3D 自动配准
  • 伪影消除算法

EPU 2 软件

  • 用于单颗粒采集的显微镜内嵌式解决方案
  • 适用于高通量颗粒收集
  • 兼容胶片、CCD 相机和直接电子相机

iFast 软件

  • 可加快配方创建速度的宏记录器
  • 可实现无人值守夜间操作的运行器
  • 对齐工具:图像识别和边缘查找

Inspect 3D 软件

  • 用于交叉关联的图像处理工具和过滤器
  • 用于图像对齐的特征跟踪
  • 用于迭代投影比较的代数重建技术

Maps 软件

  • 大面积采集高分辨率图像
  • 轻松发现感兴趣区
  • 自动化图像采集过程

NEXS 软件

  • NEXS 与电路编辑系统之间可自动同步位置/放大倍数以实现更无缝的用户体验
  • 连接到大多数用于 EFA、PFA 和电路编辑空间的 Thermo Scientific 工具

Pergeos 软件
岩石和矿物质

  • 可视化、处理和分析岩石图像数据
  • 从孔隙到岩心执行多尺度成像分析
  • 计算地质和岩石物理性质

Tomography 5 软件

  • 自动化多位点批量断层扫描
  • 自动盒式映射
  • 可达到最佳电子剂量的剂量对称倾斜方案
  • 与 Selectris 成像过滤器完全集成

Velox 软件

  • 处理窗口左侧的实验面板。
  • 活细胞定量分析
  • 交互式检测器布局界面,用于可重现的实验控制和设置

3D 重构

  • 直观的用户界面、可最大限度提高用户使用能力
  • 直观的全自动用户界面
  • 基于 " 阴影形状 " 技术、无需阶段倾斜

AsbestoMetric

  • 用于图像采集、纤维检测和报告的自动化工具
  • 纤维再访问有助于 EDX 分析
  • 石棉分析的 ISO 标准报告

EDS 绘图

  • 快速可靠的样品或所选线中元素分布信息
  • 容易导出和报告结果

纤维公制

  • 通过自动测量节省时间
  • 快速、自动收集所有统计数据
  • 以无与伦比的准确度查看和测量微纤维和纳米纤维

NanoBuilder

  • 基于 CAD 的原型设计
  • 全自动作业执行、阶段导航、减薄和沉积
  • 自动对准和漂移控制

分区公制

  • ProSuite 中的集成软件可用于在线和离线分析
  • 将颗粒特征相关联、比如直径、圆度、长径比和会议度
  • 使用自动图像映射创建图像数据集

Phenom 编程接口

  • 定制您的 SEM 以满足您的工作流程
  • 利用自动化流程提高效率、节省时间
  • 控制成像设置和阶段导航

公制端口

  • 根据孔隙特征相关联、如面积、长径比、主要和次要轴
  • 直接从桌面 SEM 采集图像
  • 使用高质量图像的统计数据

ProSuite

  • 自动采集图像
  • 实时远程控制
  • 标准应用包括:自动图像映射 + 远程用户界面

石英 PCI/CFR

  • 符合 21 CFR 第 11 部分要求的 SEM 成像可追溯性
  • 与 Phenom XL 和 Phenom Pro 台式 SEM 兼容
  • 支持 Windows 10 64 位操作系统

μHeater

  • 用于原位高分辨率成像的超快速加热解决方案
  • 全集成:
  • 温度最高可达 1200 °C

μPolisher

  • 有可能实现大量新的、未经探索的应用
  • 非常低的能量减薄
  • 小光斑尺寸、适用于精确的局部表面处理

Selectris 和 Selectris X 成像过滤器

  • 专用于高稳定性和原子分辨率成像
  • 操作简便
  • 与最新一代 Thermo Scientific Falcon 4 直接电子检测器配对使用

Ceta D 相机

  • 在任何高电压 (20–300 kV) 下均具有极佳性能
  • 兼容镜筒后过滤器和光谱仪
  • 用于动态研究的视频采集

Falcon 4i 检测器

  • 高吞吐量,每小时可获得更多图像
  • 无与伦比的成像质量和高 DQE
  • 使用 EER 进行无损数据压缩

电荷减少样品支架

  • 放大倍数高达 8 倍
  • 更快的样品制备
  • 非导电样品可以在自然状态下成像

电式给料机样品架

  • 将电极连接至样品、以便于原位测量
  • 可在 0–25 mm 范围手动调节样品高度
  • 探头电流测量

Eucentric样品支架

  • 在桌面 SEM 上进行共焦倾斜和同轴旋转
  • 快速成像,上样 < 1 分钟即可完成
  • 实时 3D 样品可视化模块

过滤器插件

  • 过滤残留分析和石棉分析
  • 提供支持 47 mm(1.85 英寸)和 25 mm(1 英寸)过滤器的两种型号
  • 用于 Phenom 台式扫描电镜

Metallurgical样品支架

  • 旨在支持树脂安装样品
  • 用于冶金和与刀片配合使用时的首选解决方案
  • 样品尺寸最大至 32 mm 直径和 30 mm 高度

微工具样品支架

  • 快速夹紧
  • 可倾斜和旋转、便于定位样品
  • 样品加载无需额外工具

电动倾斜&旋转样品杆

  • 翻转角度 -10° 至 +45°
  • 连续 360° 压实旋转
  • 由专用运动控制 ProSuite 应用程序控制

内布罗微粒分散剂

  • 干粉均匀分散的标准方法
  • 避免粒子簇
  • 配合 Phenom 台式扫描电镜使用

树脂安装插件

  • 独特的样品持有人概念
  • 提供适用于支持 25 mm(约 1 英寸)、32 mm (约 1 ¼ 英寸)和 40 mm(约 1 ½ 英寸)直径的标准尺寸样品的 3 种型号

Standard 样品支架

  • 可分析样品量多达 100 mm x 100 mm 的紧凑型样品台
  • 可以使用 3 种树脂或冶金安装插件进行扩展
  • 配合 Phenom 台式扫描电镜使用

样品架插件

  • 更快速的涂层和多层样品的交叉成像
  • 无需螺钉或额外工具即可轻松夹紧
  • 无需螺钉和工具即可夹紧样品

Tensile 样品支架

  • 确定批次质量
  • 确定生产一致性
  • 帮助设计流程

温控样品架

  • 温度范围 -25 °C 至 +50 °C
  • 控温准确度: ±1.5 °C
  • 温度显示分辨率为 0.1 °C


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